发布时间:2024年4月18日浏览人数:73信息来源:孟津区知识产权公共服务平台
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精品专利
● 专利号
CN202110402233.4
● 专利权人
河南科技大学
● 授权日期 2023-07-25 ● 意向交易方式 专利权转让、专利实施许可、技术开发等 ● 摘要 本发明属于磁控溅射用靶材的制备领域,具体涉及一种含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法。该含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法包括以下步骤:1)以三氧化钼粉、铝粉、钼酸钠粉为原料,经球磨混合,得到混合粉末;混合粉末中,钠原子占钼、氧、钠、铝总原子比为3~9%,铝原子占钼、氧、钠、铝总原子比为1~3%;2)将混合粉末在真空条件下进行放电等离子烧结。本发明的含钠的氧化钼陶瓷溅射靶材制备方法,采用氧化钼和钼酸钠为原料,铝作粘接剂,通过放电等离子烧结炉(SPS)实施烧结制备工艺,降低烧结温度,降低气体含量,提高钠元素收得率,提高靶材致密度和均匀性,制备出均匀、高致密、高钠含量的含钼钠陶瓷靶材。 ● 意向交易金额 面议